Branche

Vakuumpumpen für Halbleiter, Elektronik und Display

Waferfertigung, Beschichtung, Displayproduktion und Leiterplattenbestückung brauchen Vakuum in sehr unterschiedlichen Bereichen: vom partikelfreien Prozessvakuum beim Ätzen und Abscheiden über Load-Lock-Kammern bis zum Unterdruck für Pick & Place und Handhabung. Pfeiffer Vacuum und Busch nennen dafür trockene Vorpumpen, Becker und Elmo Rietschle Pumpen für Bestückung, Trocknung und Absaugung, Atlas Copco Pumpen für das Hausvakuum der Fab. Hier sehen Sie, welche Serien die Hersteller selbst für diese Aufgaben nennen – 519 Modelle von 7 Herstellern.

519 Modelle vergleichenAnwendungen ansehen

  • 519Modelle
  • 62Serien
  • 7Hersteller
  • 8Anwendungen
Leiterplatte mit elektronischen Bauteilen
Leiterplatte mit elektronischen Bauteilen

Kurz gesagt

Vakuumpumpen für Halbleiter, Elektronik und Display – das Wichtigste in Kürze

  • ProzessvakuumPfeiffer Vacuum nennt für das Ätzen von Wafern 10⁻²–10⁻³ hPa, für Strippen und Veraschen etwa 1 hPa bei 600–1800 (3000) m³/h und für ALD 10⁻¹–5 mbar bei 1800–4500 m³/h.
  • Trockene VorpumpenFür die Waferfertigung nennt Pfeiffer Vacuum trockene Pumpen – mehrstufige Wälzkolbenpumpen (Roots), Schrauben- und Scroll-Vakuumpumpen –, weil die Nebenprodukte vieler Prozesse korrosiv oder pulvrig sind. Busch nennt dafür die COBRA Semicon Serie.
  • HausvakuumAtlas Copco gibt für das zentrale Vakuum der IC-Fertigung 100–400 mbar abs. und 2.000–8.000 m³/h an, in großen Fabs über 12.000 m³/h – rund um die Uhr, mit Wärmerückgewinnung bis 75 %.
  • Pick & PlaceBecker nennt für die Elektronikindustrie präzises, pulsations- und vibrationsarmes Vakuum, vor allem für Pick & Place, und eine Fallstudie mit 20.000 wartungsfreien Betriebsstunden.

Anwendungen

Wofür Halbleiter, Elektronik und Display Vakuumpumpen braucht

Für jede Anwendung: was das Vakuum leistet und welche Serien die Hersteller dafür nennen. Die Angaben stammen von den Seiten der Hersteller.

Ätzen, Strippen und Ionenimplantation

Beim Dielektrik-, Leiter- und Poly-Silizium-Ätzen, beim Strippen und Veraschen sowie beim ALE arbeiten die Prozesse laut Pfeiffer Vacuum bei 10⁻²–10⁻³ hPa, mit trockenen Vorpumpen und Turbopumpen; beim Strippen bei etwa 1 hPa mit 600–1800 (3000) m³/h. Busch nennt für das Poly-Silizium-Ätzen und die Ionenimplantation die COBRA Semicon Serie; Pfeiffer Vacuum nennt für die Implantation ACP und TORRI, für das Ätzen A4 und COBRA BC/DS und für die EUV-Lithografie partikelfreies Vakuum mit hohem H₂-Fluss in der Lichtquelle (ACP, HiLobe).

Dünnschichtabscheidung: CVD, PECVD, ALD und PVD

Pfeiffer Vacuum nennt für PECVD/SACVD, PVD, ALD, LPCVD/Diffusion und MBE die A4 Serie und weist darauf hin, dass die Nebenprodukte korrosiv oder pulvrig sind; für ALD gibt Pfeiffer 10⁻¹–5 mbar bei 1800–4500 m³/h an, für MBE etwa 10⁻¹¹ hPa. Busch nennt die COBRA Semicon Serie für ALD, PECVD, PVD und LPCVD/Diffusion und COBRA DS für CVD/PECVD-Schichten wie Antireflexschichten. Für dekorative, optische und Glasbeschichtung nennen beide Hersteller weitere Serien – Busch COBRA Industry, R5, PANDA/PUMA und MINK, Pfeiffer ACP, DuoVane, HiLobe, HiScroll und TORRI.

Load-Lock- und Transferkammern

Schleusen bleiben laut Pfeiffer Vacuum partikelfrei unter Vakuum und müssen schnell abgepumpt werden; genannt werden A 100 L und A 200 L mit 100 bzw. 200 m³/h für 10⁻¹–10⁻² hPa sowie A4, ACP, TORRI und COBRA DS. Busch nennt für Load-Lock-Kammern COBRA (NX, DS, NC), PANDA WV und PUMA WY, damit Wafer ohne Druckstoß eingeschleust werden.

Pick & Place, Chipmounter und Handhabung

Unterdruck hält die Sauger beim automatisierten Heben und Umsetzen. Becker nennt dafür die Leiterplattenbestückung mit Chipmountern, Be- und Entladeautomaten und Portalanlagen und als Serien KVT, VT und SV; eine Fallstudie nennt 20.000 wartungsfreie Betriebsstunden. Für Vakuumheber gibt Becker SV mit 195–1250 m³/h und −290 bis −440 mbar an, für Roboter-Pick & Place die Klauen-Vakuumpumpen BCV (BCV 100: 50 mbar, BCV 300: 150 mbar). Elmo Rietschle nennt Pick & Place für die Elektronik mit den Familien G, L und V.

Hausvakuum für Bestücken, Transport, Schneiden und Testen

Atlas Copco nennt zentrales Vakuum für alle Handhabungsschritte der IC-Fertigung – Bestücken, Transport, Schneiden, Formen, Testen – mit 100–400 mbar abs. und 2.000–8.000 m³/h, in großen Fabs über 12.000 m³/h. Genannt werden GHS VSD+, DZS VSD+ (Klasse 0) und LRP VSD+, sauberes und stabiles Hausvakuum rund um die Uhr, Wärmerückgewinnung bis 75 % und präzise Druckregelung für mehrere Linien. Leybold listet die Elektronikfertigung für NOVADRY NDi mit Zentralvakuum unter 100 mbar.

Vakuumtrocknung von Bauteilen und Baugruppen

Elmo Rietschle und Becker listen die Trocknung elektronischer Bauteile, ohne sie näher zu beschreiben; Becker nennt daneben das Trocknen und Imprägnieren in Autoklaven und das Evakuieren von Trocknungsanlagen. Allgemein gilt laut Becker: Wasser verdampft unter Vakuum schon ab 20–40 °C (genannt für VADS und U). Elmo Rietschle nennt für die Vakuumtrocknung Ausführungen mit hoher Wasserdampfverträglichkeit (V-VC 40–150, 40–180 m³/h) und für kurze Evakuierungszeiten die S-VSI 300 mit bis 380 m³/h und 0,1 mbar (abs.).

Inspektion und Messtechnik: CD-SEM, Analytik, Lecksuche

Für vibrationsarme Wafer-Messtechnik mit CD-SEM nennt Pfeiffer Vacuum 10⁻⁵–10⁻⁷ hPa und als Vorpumpen ACP und HiScroll, für Inspektion und Messtechnik insgesamt A 100/200 L, ACP und TORRI. Die Restgasanalyse misst laut Pfeiffer die Gaszusammensetzung im Vakuum (Verunreinigung, Lecks, Ausgasung) bei höchstens 10⁻⁴ hPa am Analysator. Bei der Helium-Lecksuche ortet ein Lecksucher außen aufgesprühtes Helium mit etwa 10⁻⁷–10⁻⁹ mbar·l/s; als Vorpumpen nennt Pfeiffer ACP, DuoVane und HiScroll.

Leiterplattenfertigung: Fixieren, Löten, Nassprozesse

Becker nennt das Fixieren in Halbleiter-Prüfprozessen, die Lötdampfabsaugung und das Ein- und Abblasen bei Leiterplatten-Nassprozessen, ohne sie zu beschreiben. Allgemein hält Vakuumspannen laut Becker Teile fest, damit sie präzise bearbeitet werden können, und beim Absaugen von Gemischen aus Gas, Flüssigkeit und Feststoff schützt ein Abscheider die Pumpe. Edwards listet die Leiterplattenfertigung und Elektronik-Prüfungen für Scroll-Vakuumpumpen.

  • BeckerVT, VX, KVT, KVX, VTLF, VXLF, O, U, U4, VADS, SV, VASF Serien von Beckers Vakuumspannen-Seite
  • Edwardslistet Leiterplattenfertigung und Elektronik-Prüfungen für Scroll-Vakuumpumpen ohne Serie

Hersteller und Serien

7 Hersteller, 62 Serien für Halbleiter, Elektronik und Display

Aufgeführt sind die Serien, die der Hersteller selbst für diese Branche nennt. „Nur … anzeigen“ setzt den Filter der Produktübersicht.

Produktübersicht

Alle 519 Modelle für Halbleiter, Elektronik und Display im Vergleich

Mit den Filtern links grenzen Sie die Auswahl ein – nach Hersteller, Technologie und den Kennwerten der Modelle, wahlweise für 50 oder 60 Hz.

Atlas Copco AWL Serie 11 Modelle

AWL 4000Saugvermögen 4.290 m³/h 50 HzEnddruck 160 mbarMotornennleistung 160 kW 50 HzVarianten
AWL 5500Saugvermögen 5.580 m³/h 50 HzEnddruck 160 mbarMotornennleistung 185 kW 50 HzVarianten
AWL 7000Saugvermögen 6.900 m³/h 50 HzEnddruck 160 mbarMotornennleistung 185 kW 50 HzVarianten 8
AWL 9500Saugvermögen 9.200 m³/h 50 HzEnddruck 160 mbarMotornennleistung 200 kW 50 HzVarianten 8
AWL 12500Saugvermögen 12.500 m³/h 50 HzEnddruck 160 mbarMotornennleistung 280 kW 50 HzVarianten 8
AWL 15000Saugvermögen 15.000 m³/h 50 HzEnddruck 160 mbarMotornennleistung 315 kW 50 HzVarianten 9
AWL 17500Saugvermögen 17.400 m³/h 50 HzEnddruck 160 mbarMotornennleistung 400 kW 50 HzVarianten 8
AWL 21500Saugvermögen 21.300 m³/h 50 HzEnddruck 160 mbarMotornennleistung 450 kW 50 HzVarianten 8
AWL 26000Saugvermögen 25.800 m³/h 50 HzEnddruck 160 mbarMotornennleistung 560 kW 50 HzVarianten 6
AWL 30000Saugvermögen 30.000 m³/h 50 HzEnddruck 160 mbarMotornennleistung 630 kW 50 HzVarianten 4
AWL 37500Saugvermögen 36.600 m³/h 50 HzEnddruck 160 mbarMotornennleistung 800 kW 50 HzVarianten

Atlas Copco DHS VSD+ Serie 1 Modell

DHS 3000 VSD+Saugvermögen 3.044 m³/h 50 Hz3.044 m³/h 60 HzEnddruck 350 mbarMotornennleistung 55 kW 50 Hz55 kW 60 HzVarianten 4

Atlas Copco DWS VSD+ Serie 6 Modelle

DWS 160 VSD+Saugvermögen 160 m³/h 50 Hz160 m³/h 60 HzEnddruck 0,01 mbarMotornennleistung 7,5 kW 50 Hz7,5 kW 60 HzVarianten 1
DWS 250 VSD+Saugvermögen 250 m³/h 50 Hz250 m³/h 60 HzEnddruck 0,01 mbarMotornennleistung 7,5 kW 50 Hz7,5 kW 60 HzVarianten 1
DWS 450 VSD+Saugvermögen 450 m³/h 50 Hz450 m³/h 60 HzEnddruck 0,01 mbarMotornennleistung 11 kW 50 Hz11 kW 60 HzVarianten 3
DWS 750 VSD+Saugvermögen 740 m³/h 50 Hz740 m³/h 60 HzEnddruck 0,01 mbarMotornennleistung 22 kW 50 Hz22 kW 60 HzVarianten 3
DWS 160/1750 VSD+Saugvermögen 1.200 m³/h 50 Hz1.200 m³/h 60 HzEnddruck 1 × 10-3 mbarMotornennleistung 12 kW 50 Hz12 kW 60 HzVarianten 1
DWS 250/2600 VSD+Saugvermögen 1.900 m³/h 50 Hz1.900 m³/h 60 HzEnddruck 1 × 10-3 mbarMotornennleistung 15 kW 50 Hz15 kW 60 HzVarianten 1

Atlas Copco DZS Serie 8 Modelle

DZS 065ASaugvermögen 65 m³/h 50 Hz78 m³/h 60 HzEnddruck 50 mbarMotornennleistung 1,8 kW 50 Hz2,2 kW 60 HzVarianten 12
DZS 065APSaugvermögen 65 m³/h 50 Hz78 m³/h 60 HzEnddruck Motornennleistung 3,7 kW 50 Hz3,7 kW 60 HzVarianten 5
DZS 150ASaugvermögen 150 m³/h 50 Hz180 m³/h 60 HzEnddruck 50 mbarMotornennleistung 3,7 kW 50 Hz3,7 kW 60 HzVarianten 12
DZS 150APSaugvermögen 150 m³/h 50 Hz180 m³/h 60 HzEnddruck Motornennleistung 11 kW 50 Hz15 kW 60 HzVarianten 6
DZS 300APSaugvermögen 238 m³/h 50 Hz280 m³/h 60 HzEnddruck Motornennleistung 19 kW 50 Hz22 kW 60 HzVarianten 6
DZS 300ASaugvermögen 300 m³/h 50 Hz360 m³/h 60 HzEnddruck 140 – 200 mbarMotornennleistung 6,2 kW 50 Hz7,5 kW 60 HzVarianten 12

Atlas Copco DZS VSD+ Serie 5 Modelle

Atlas Copco GHS VSD+ Serie 21 Modelle

Atlas Copco GVS VSD+ Serie 4 Modelle

Atlas Copco LRP VSD+ Serie 3 Modelle

Becker BCV Serie 7 Modelle

Becker KVT Serie 4 Modelle

Becker KVX Serie 4 Modelle

Becker O Serie 6 Modelle

Becker RBP Serie 3 Modelle

Becker SV Serie 16 Modelle

Becker U4 Serie 6 Modelle

Becker U Serie 8 Modelle

Becker VADS Serie 3 Modelle

Becker VARIAIR RV Serie 1 Modell

Becker VASF Serie 6 Modelle

Becker VATP Serie 1 Modell

Becker VTLF Serie 6 Modelle

Becker VT Serie 7 Modelle

Becker VXLF Serie 5 Modelle

Becker VX Serie 4 Modelle

Busch COBRA Industry Serie 36 Modelle

Busch COBRA Semicon Serie 22 Modelle

Busch MINK Serie 32 Modelle

Busch PANDA/PUMA Serie 26 Modelle

Busch R5 Serie 58 Modelle

Edwards GV Serie 2 Modelle

Edwards GXS Serie 10 Modelle

Elmo Rietschle G-BH1 Serie 25 Modelle

Elmo Rietschle G-BH2 Serie 9 Modelle

Elmo Rietschle G-BH7 Serie 15 Modelle

Elmo Rietschle G-BH9 Serie 1 Modell

Elmo Rietschle G-BH100 Serie 1 Modell

Elmo Rietschle L-BL2 Serie 7 Modelle

Elmo Rietschle L-BV2 Serie 4 Modelle

Elmo Rietschle L-BV3 Serie 1 Modell

Elmo Rietschle L-BV5 Serie 5 Modelle

Elmo Rietschle L-BV7 Serie 4 Modelle

Elmo Rietschle S-SVT Serie 11 Modelle

Elmo Rietschle S-VSI Serie 1 Modell

Elmo Rietschle V-KTR Serie 4 Modelle

Elmo Rietschle V-VCA/VCE Serie 2 Modelle

Elmo Rietschle V-VCB Serie 2 Modelle

Elmo Rietschle V-VCS Serie 13 Modelle

Elmo Rietschle V-VCX Serie 7 Modelle

Elmo Rietschle V-VGD Serie 2 Modelle

Elmo Rietschle V-VTN Serie 3 Modelle

Elmo Rietschle V-VTR Serie 2 Modelle

Leybold CLAWVAC Serie 5 Modelle

Leybold NOVADRY Serie 4 Modelle

Pfeiffer Vacuum A4 Serie 12 Modelle

Pfeiffer Vacuum A 100/200 L Serie 3 Modelle

Pfeiffer Vacuum ACP Serie 4 Modelle

Pfeiffer Vacuum DuoVane Serie 12 Modelle

Pfeiffer Vacuum HiLobe Serie 17 Modelle

Pfeiffer Vacuum HiScroll Serie 4 Modelle

Pfeiffer Vacuum SmartVane Serie 2 Modelle

Pfeiffer Vacuum TORRI Serie 4 Modelle

Pfeiffer Vacuum UnoLine Plus Serie 1 Modell

Modellvergleich

Modelle, die ein Hersteller nicht mehr im aktuellen Programm führt, stehen in seinem Bereich „Auslaufmodelle“.

Auswahl

Vakuumpumpe für Halbleiter, Elektronik und Display auswählen

Was die Hersteller für den Einsatz in dieser Branche hervorheben.

Prozessgase und Nebenprodukte

Nach Pfeiffer Vacuum sind die Nebenprodukte vieler Abscheideprozesse korrosiv oder pulvrig; genannt werden trockene Vorpumpen (mehrstufige Wälzkolben, Schrauben, Scroll). Edwards nennt für Display-Prozesse wie CVD, Ätzen, PVD, Implantation und Kapselung Vakuum zusammen mit Abgasreinigung. Für Anwendungen mit hohem Gasdurchsatz nennen Busch und Pfeiffer die COBRA Semicon Serie (COBRA DS).

Partikel, Vibration, Pulsation

Laut Pfeiffer Vacuum muss die Waferfertigung partikel- und kontaminationsfrei bleiben; für CD-SEM und Elektronenmikroskopie nennt Pfeiffer Vacuum vibrationsarme Pumpen. Becker nennt für Pick & Place präzises, pulsations- und vibrationsarmes Vakuum.

Aufstellort

Pfeiffer Vacuum unterscheidet Pumpen im Reinraum, im Sub-Floor (Point-of-Use) und im Sub-Fab. Atlas Copco nennt sauberes, stabiles Hausvakuum rund um die Uhr; Leybold nennt Zentralvakuum unter 100 mbar für die Elektronikfertigung.

Energie und Drehzahlregelung

Atlas Copco gibt für zentrale Vakuumsysteme mit drehzahlgeregelten Pumpen bis 50 % weniger Energie und CO2 an und Wärmerückgewinnung bis 75 %; Leybold nennt für Netze mit drehzahlgeregelten Pumpen oft über 50 % Energieersparnis (Leybold-Angabe).

Häufige Fragen

Häufige Fragen zu Vakuumpumpen für Halbleiter, Elektronik und Display

Welche Vakuumpumpe eignet sich für die Halbleiterfertigung?

Pfeiffer Vacuum nennt für die Waferfertigung trockene Vorpumpen – mehrstufige Wälzkolbenpumpen (Roots), Schrauben- und Scroll-Vakuumpumpen – und als Serien A 100/200 L, A4, ACP, COBRA DS/BC und TORRI, je nach Prozess im Reinraum, im Sub-Floor oder im Sub-Fab. Busch nennt die COBRA Semicon Serie von Load-Lock bis zu partikelerzeugenden Prozessen wie Poly-Silizium-Ätzen, Strippen, PECVD, PVD und ALD. Edwards nennt für Display-Prozesse GXS und GV zusammen mit Abgasreinigung.

Wie viel Vakuum braucht das Ätzen von Wafern?

Pfeiffer Vacuum gibt für Dielektrik-, Leiter- und Poly-Silizium-Ätzen 10⁻²–10⁻³ hPa an, für Strippen und Veraschen etwa 1 hPa bei 600–1800 (3000) m³/h. Genannt werden A4 und COBRA BC/DS für das Ätzen und A4 und COBRA BC für das Strippen; Busch nennt für Poly-Silizium-Ätzen und Strippen/Veraschung die COBRA Semicon Serie.

Welche Vorpumpe für ALD und CVD?

Für ALD nennt Pfeiffer Vacuum 10⁻¹–5 mbar bei 1800–4500 m³/h, für ALD, PECVD und LPCVD/Diffusion die A4 Serie und COBRA DS; die Nebenprodukte sind laut Pfeiffer korrosiv oder pulvrig. Busch nennt für ALD, PECVD, PVD und LPCVD/Diffusion die COBRA Semicon Serie und für CVD/PECVD-Schichten wie Antireflexschichten COBRA DS.

Welche Vakuumpumpe für Load-Lock-Kammern?

Pfeiffer Vacuum nennt A 100 L und A 200 L mit 100 bzw. 200 m³/h für 10⁻¹–10⁻² hPa, dazu A4, ACP, TORRI und COBRA DS; die Schleusen bleiben partikelfrei unter Vakuum und werden schnell abgepumpt. Busch nennt COBRA (NX, DS, NC), PANDA WV und PUMA WY, damit Wafer ohne Druckstoß eingeschleust werden.

Welche Vakuumpumpe für Pick & Place und Chipmounter?

Becker nennt für die Leiterplattenbestückung mit Chipmountern und für Pick & Place allgemein die Serien KVT, VT und SV und präzises, pulsations- und vibrationsarmes Vakuum; eine Fallstudie nennt 20.000 wartungsfreie Betriebsstunden. Für Roboter-Pick & Place nennt Becker die Klauen-Vakuumpumpen BCV (BCV 100: 50 mbar, BCV 300: 150 mbar), für Schlauch- und Säulenheber die Seitenkanalgebläse SV mit 195–1250 m³/h. Elmo Rietschle nennt Pick & Place für die Elektronik mit den Familien G, L und V.

Trockenlaufend oder ölgeschmiert in der Halbleiterfertigung?

Für die Waferfertigung nennt Pfeiffer Vacuum ausschließlich trockene Vorpumpen, weil die Fertigung partikel- und kontaminationsfrei bleiben muss und die Nebenprodukte korrosiv oder pulvrig sind; Busch nennt dafür die COBRA Semicon Serie. Außerhalb der Prozesskammern, etwa bei Pick & Place und Handhabung, nennt Becker für die Elektronikindustrie trockenlaufende und ölgeschmierte Drehschieber-, Schrauben-, Klauen- und Seitenkanal-Pumpen. Für das Hausvakuum nennt Atlas Copco neben GHS VSD+ und LRP VSD+ auch DZS VSD+ in Klasse 0.

Welche Vakuumpumpe für EUV-Lithografie?

Pfeiffer Vacuum nennt für die EUV-Lithografie partikelfreies Vakuum und einen hohen H₂-Fluss in der Lichtquelle, für Strukturen unter 10 nm; als Vorpumpen werden ACP und HiLobe genannt, für die Lithografie allgemein A 100/200 L, A4, ACP und TORRI.

Welche Vakuumpumpe für Rasterelektronenmikroskope und CD-SEM?

Pfeiffer Vacuum nennt für CD-SEM in der Wafer-Messtechnik 10⁻⁵–10⁻⁷ hPa und vibrationsarme Vorpumpen, ACP und HiScroll. Die Elektronenmikroskopie braucht laut Pfeiffer einen streuungsfreien Elektronenstrahl und vibrationsarme Pumpen; genannt werden Membran-, mehrstufige Roots- und Scroll-Pumpen, als Serie HiScroll.

Welche Vakuumpumpe für die Displayfertigung (TFT, LCD, OLED)?

Pfeiffer Vacuum nennt für die Fertigung von Flachbildschirmen (TFT, LCD, AMOLED) die A4 Serie und COBRA DS. Busch nennt für Display die COBRA Industry und die COBRA Semicon Serie und Hochvakuum für die Produktion von Flachbildschirmen. Edwards nennt für Display-Prozesse – CVD, Ätzen, PVD, Implantation, Kapselung – Vakuum mit Abgasreinigung und die Serien GXS und GV.

Wie findet man Lecks in Vakuumanlagen der Halbleiterfertigung?

Pfeiffer Vacuum beschreibt die Helium-Lecksuche: Helium wird außen aufgesprüht, ein Lecksucher am System ortet die Lecks mit etwa 10⁻⁷–10⁻⁹ mbar·l/s; genannt werden die Lecksucher ASM 340/310/390/392 und als Vorpumpen ACP, DuoVane und HiScroll. Die Restgasanalyse zeigt daneben Verunreinigungen, Lecks und Ausgasung im Vakuum an.

Einzelpumpe an jeder Maschine oder zentrale Vakuumanlage?

Eine zentrale Anlage in einem eigenen Raum hält Lärm und Wärme aus der Produktion fern und passt die Leistung dem Bedarf an. Zentralvakuumsysteme plant und realisiert Eugen Theis Vakuum, ein Unternehmen der Ehrler & Beck-Gruppe – mehr unter Central Vacuum.

Liefert Ehrler & Beck auch Ersatzteile und Service?

Ja. Ehrler & Beck bietet Originalersatzteile und Zubehör sowie Wartung und Reparatur an.

Welche Pumpe passt zu Ihrem Prozess?

Nennen Sie uns die Anwendung, das Medium und die Zahl der Maschinen – wir beraten Sie zu Auswahl, Ersatzteilen und Service.

Anfrage stellenErsatzteile und ZubehörService